前沿导读
荷兰Techwatch媒体公司CEO、荷兰高科技学院董事瑞尼·雷吉梅克在接受采访时表示，ASML迫于美国对荷兰政府施压，先后封锁了EUV和先进浸润式光刻机的对华出口，这极大减缓了中国芯片的发展速度。
2021年，我预测中国将会在三年内解决7nm芯片的量产问题，进而向5nm节点进攻。7nm看似是先进节点的芯片，但是在中国企业眼中，他们将7nm当做成熟芯片来制造，通过规模化效应来摊平研发成本，提升制造效率。如果没有美国的出口管制，那么中国将会在5至10年内追上国际水平。
格局转变
全球芯片产业被大规模运用的产品是DUV光刻机，其中包括了干式设备以及先进的浸润式设备。
浸润式光刻机最高支持7nm节点的芯片制造，也可以支持5nm节点的芯片制造，但是目前没有任何一个企业能够成功实现用DUV量产5nm芯片。越是向下发展，浸润式光刻机的良品率和经济性也就越低，所以、三星、台积电均选择在7nm节点全面引入EUV光刻机进行使用。
ASML是EUV光刻机的唯一供应商，ASML的成功得益于美国英特尔和中国台积电的支持。
台积电在技术、人才、资金上面大力扶持ASML，而英特尔则是联合美国能源部成立了EUV LLC技术联盟，将ASML吸纳了进来，把尼康和佳能等日本光刻机企业拒之门外。英特尔在这个过程中，担任一个帮助ASML扫清竞争对手的角色。
ASML享受到了来自于美国的政策扶持，这极大加快了EUV光刻机的研发速度，但同时也与美国资本签订了合作协议，使美国政府持有EUV光刻机的最大话语权。
雷吉梅克认为，ASML能成功的核心因素有两点。一个是因为其拥有发明、设计、生产复杂系统的能力，另一个就是政府的支持。
ASML可以将所有的子模块全部组装到一起，形成一个可持续运行的整机设备。并且ASML已经陆续收购了一批供应链企业，其中包括了供应光源的美国西盟公司，以及供应玻璃和光学组件的Berliner Glas集团。
其收购的原因是这些企业的部门工程师无法将各个环节的子系统有效的结合在一起，只有ASML全资掌控了这两家企业，才能将每个环节有效的利用起来。
美国、德国、日本、中国等国家都尝试过开发自主的光刻机，美国是最先成功的国家，但是由于其对待客户傲慢无礼的态度，让日本企业趁虚而入，日本的佳能、尼康凭借优质的客户服务成功压制了美国光刻机企业。从此美国的光刻机产业一蹶不振，最终被ASML全资收购。
德国蔡司曾经也尝试过开发光刻机设备，但是由于整机的复杂性和资本上面的倾斜，导致蔡司最终放弃了光刻机项目，专注于为ASML的光刻机供应光学成像系统。
到目前为止，全球光刻机产业已经形成了三家制衡的局面：荷兰ASML稳坐全球第一，其次是日本佳能和尼康，中国企业还在持续追赶。
中国技术
雷吉梅克对于中国光刻机的发展持保守态度，相关的中国企业拥有足够多的资金补助和知识储备，一旦设备就位，中国企业立马就可以启动先进晶圆厂的扩产计划。不过这个设备什么时候有，技术水平怎么样，稳定性如何，都是未知数。
美国光刻机的失败，是因为美国企业傲慢无礼，客户反馈产品有问题，美国企业的第一印象就是客户原因，是客户不会用才导致的设备损坏。
德国光刻机的放弃，是因为当时的蔡司总部认为制造望远镜、眼镜、医疗科研器械等消费品才是能赚大钱的项目，光刻机产业的研发周期长、见效时间长，不符合蔡司的运营规划，所以砍掉光刻机项目，只保留成像系统的研发。
中国光刻机的研发正好避开了这两个雷区，国家对于光刻机项目非常看重，一直将先进的国产设备列为政策规划的首要扶持对象。相关企业也一直在推动自主技术的研发进度，2024年公布了新一代国产干式DUV光刻机，其技术水平较之前应用在90nm节点的设备进步明显。
2023年国产7nm芯片上市，在采用ASML浸润式光刻机的基础上，通过多重图案化技术成功实现量产。
虽然实现了7nm芯片的量产，但是多年过去了，现在最新的产品也只是在之前的基础上进行优化，并未达到5nm芯片的技术水平。不过对比2023年刚上市的时候，现在制造的7nm芯片已经在功耗、良品率、产能等多个维度有了大幅度的优化。
先进芯片的发展思路与成熟芯片如出一辙，先完成初步的制造，然后进入规模化量产，在量产的基础上不断的对已有技术进行打磨优化，一点点积累技术经验。
维嘉资本提示：文章来自网络，不代表本站观点。
